1、保持合適的pH值。

吸收塔內(nèi)漿液pH計(jì)測量不準(zhǔn)確，pH值上下波動大，就會使得輸送的新鮮石灰石漿液用量不是真正的需要量，而過量輸送新鮮石灰石漿液至吸收塔內(nèi)，會導(dǎo)致石膏純度下降，造成石膏水分不宜脫除。吸收塔漿液pH值與一些重要信號，如鍋爐負(fù)荷、FGD進(jìn)口SO2、新鮮石灰石漿液密度一并綜合起來，用于確定需要輸送至吸收塔的新鮮石灰石漿液量。隨著新鮮石灰石漿液（CaCO3）的加入，吸收塔內(nèi)漿液將達(dá)到某一pH值，高pH值的漿液環(huán)境有利于SO2的吸收，而低pH值則有助于Ca2-的析出，二者相互對立。

在一定范圍內(nèi)隨著吸收塔漿液pH值的升高，脫硫效率一般呈上升趨勢，但當(dāng)pH值升至臨界值時脫硫效率不會持續(xù)上升，這時再提高吸收塔漿液pH值，吸收塔內(nèi)漿液反應(yīng)活性反而變小，脫硫效率降低，導(dǎo)致石膏漿液中的碳酸鈣（CaCO3）含量增加，二水硫酸鈣晶體（CaSO4??2H2O）含量降低，即降低了石膏品質(zhì)，帶來石膏脫水困難。

2、保持吸收塔液相停留時間。

石膏結(jié)晶是一個動態(tài)平衡過程，新晶種的形成和晶體長大同時進(jìn)行，石膏漿液只有在結(jié)晶到一定程度才被允許排出。因此，必須使石膏漿液在吸收塔內(nèi)保持一定的停留時間，

石膏漿液停留時間為吸收塔氧化池最大容積與單位時間排出石膏量之比。漿池容積與石膏排出時間決定了晶體形成空間以及漿液在吸收塔形成晶體及停留的總時間。

漿池容積大，石膏排出時間長，亞硫酸鈣（CaSO3??1/2H2O）更易氧化，有利于石膏晶體長大。但石膏排出時間過長，會增大漿液循環(huán)泵對已有晶體的破壞。

一般石膏漿液過飽和度所需停留時間為5-16min。漿液池提供石膏結(jié)晶時間為10-25h，提供給石灰石溶解時間為10-16 min（與漿液細(xì)度、活性、漿液pH值等有關(guān)），這二者的時間計(jì)算為漿液池中含固量除以排石膏量。

3、保持石膏脫水設(shè)備和系統(tǒng)正常運(yùn)行

在石膏旋流器運(yùn)行過程中，應(yīng)檢查旋流器進(jìn)口壓力是否控制在設(shè)計(jì)范圍，同時對頂流和底流取樣分析，確定旋流子分配比。石膏旋流器溢流含固率一般控制在1%-3%左右，底流含固率一般控制在45%-50%左右，發(fā)現(xiàn)偏離正常值時應(yīng)通過運(yùn)行分析及時查明原則。對石膏旋流器應(yīng)定期進(jìn)行清理維護(hù)并檢查旋流子磨損情況。

真空皮帶機(jī)是石膏二次脫水的重要設(shè)備，脫水效果與漿液的性質(zhì)、濾布清潔程度有較大聯(lián)系。真空皮帶脫水機(jī)濾液分離器真空表能直觀地反映皮帶脫水機(jī)的真空度，真空度與石膏含水率呈有規(guī)律的變化。真空度升高，反映出濾液水通過濾布時的壓降增加，其結(jié)果為所出石膏的含水率增大。

真空增加的原因，一是脫水設(shè)備運(yùn)行不正常，如濾布沖洗不徹底、不干凈、沖洗噴嘴堵塞或?yàn)V布使用周期過長，濾布受油污等物質(zhì)污染等，都會使脫水效果變差，脫水不暢。二是石膏漿液本身性質(zhì)的變化，如石膏漿液中小顆粒石膏晶體增多或石膏漿液中雜質(zhì)含量增加等引起濾布通道的堵塞，使石膏漿液中的水不易從濾布孔隙分離出來。

真空脫水皮帶機(jī)的真空度低于正常值，其可能原因?yàn)椋盒∑c真空槽、皮帶孔相對位置偏移、真空系統(tǒng)泄漏、濾餅厚度不足、濾布有破損、真空泵出力不足等。因此，應(yīng)加強(qiáng)對真空皮帶脫水機(jī)、真空泵設(shè)備的定期清洗、維護(hù)，特別是濾布和真空系統(tǒng)為重點(diǎn)檢查維護(hù)對象。

4、提高石膏純度。

在吸收反應(yīng)中，Ca2-遇SO42- 并結(jié)晶生成二水硫酸鈣（CaSO4??2H2O）速度較慢，在吸收氧化的漿液中，石膏的結(jié)晶受漿液中二水硫酸鈣（CaSO4??2H2O）過飽和度、漿液溫度、pH值、攪拌方式等影響。石膏晶體的形狀、大小直接影響到石膏脫水系統(tǒng)中旋流器能否正常工作。石膏晶體的粒徑越大，越有利于石膏旋流器將二水硫酸鈣晶體（CaSO4??2H2O）和未反應(yīng)的碳酸鈣（CaCO3）的分離開來。以降低石膏中的碳酸鈣（CaCO3）含量。因此，控制好石膏漿液在過飽和度情況下的等溫結(jié)晶過程，就可獲得粗大、均勻的結(jié)晶體，從而有效地控制石膏的純度。

5、保持合理的吸收塔循環(huán)漿液密度。

吸收塔循環(huán)漿液密度是FGD系統(tǒng)運(yùn)行的重要控制參數(shù)之一。晶體的生長于漿液的過飽和度密切相關(guān)。當(dāng)石膏漿液的過飽和度達(dá)到一定程度時就會形成晶種，并逐漸生長生成石膏晶粒。但當(dāng)石膏漿液的過飽和度超出一定值后，晶種的生長速率超過石膏晶粒的生長速度，晶種往往就會在未發(fā)生反應(yīng)的石灰石顆粒表面生長（晶種包裹石灰石顆粒），造成石灰石漿液利用率和脫硫效率的下降。

此外，石膏漿液的過飽和度的控制還應(yīng)特別注意初始過飽和度與生成晶體的大小有關(guān)，如果初始過飽和度越大，則所得晶體的尺寸就越小。因此，通常在FGD系統(tǒng)投運(yùn)初期，采用在吸收塔循環(huán)漿液中添加二水硫酸鈣（CaSO4??2H2O）晶體作為晶種，使得二水硫酸鈣（CaSO4??2H2O）結(jié)晶過程盡可能在過飽和度與溫度都較穩(wěn)定的條件下進(jìn)行，從而得到顆粒粗大而整齊的石膏晶體。

6、保持氧化風(fēng)量及其利用率。

進(jìn)入吸收塔的氧化空氣是提供亞硫酸鈣氧化生成硫酸鈣所必須的氧氣。因此，氧化風(fēng)量必須能夠滿足系統(tǒng)要求，且要求分布均勻并達(dá)到一定的利用率。否則，石膏漿液中的亞硫酸鈣就會超標(biāo)，最終導(dǎo)致無法形成合格的石膏晶體，

亞硫酸鈣的氧化速率與亞硫酸氫根（HSO3）濃度、氧氣（O2）濃度、pH值、溫度、煙氣中氧氣對SO2的比率、漿液的循環(huán)率、漿液的黏度和密度等綜合因素有關(guān)。HSO3與O2反應(yīng)速率很快，但O2在漿液中的溶解度非常有限，因此氧化速率常常受O2在液膜中的擴(kuò)散能力的影響。pH值的高低影響漿液中HSO3的濃度，pH值越低，漿液中HSO3的濃度越高，當(dāng)pH值＜6時，SO2在水中主要以HSO3形態(tài)存在，pH值在3.5-4.5之間，幾乎全部為HSO3形態(tài)存在。根據(jù)氧化速率與pH值的關(guān)系，當(dāng)pH值＞5.5時，氧化速率急劇下降。因此，控制pH值在適當(dāng)?shù)椭捣秶鷥?nèi)對亞硫酸鈣氧化是有利的，這就為形成合格的石膏粉晶體奠定了基礎(chǔ)。